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    薄膜制备方法

       按成膜机理分类，薄膜的制备方法可大致分为物理方法和化学方法两大类。

       物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从原物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积的主要特点是:

       (1)需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉积过程的原物质；

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